Os estudantes do IFRJ felizes com seus termos de mobilidade internacional assinadosDivulgação / IFRJ
O objetivo da reunião, além da assinatura do termo de mobilidade internacional, foi proporcionar aos estudantes dos campus Nilópolis, Pinheiral, Rio de Janeiro, Realengo e Duque de Caxias, a oportunidade de falarem sobre suas expectativas nessa nova fase da vida estudantil.
Almada pontuou em sua fala que além da experiência cultural e da vivência em um novo país, a mobilidade vai trazer a oportunidade de expandir o conhecimento e agregar valores profissionais.
Fábio da Silva, estudante de licenciatura em Ciências Biológicas do Campus Pinheiral, afirma que na University Of Tartu na Estônia, seu local de destino, tem um ponto forte em sua área de atuação e que sua perspectiva é aprender coisas que não teve oportunidade aqui no Brasil e poder levar um pouco do seu conhecimento e cultura para a Estônia.
Já Alexsandra Cervantes, estudante de Terapia Ocupacional no Campus Realengo, disse que está empolgada para conhecer uma realidade e uma cultura diferente da sua. “Minha expectativa é poder conhecer pessoas diferentes, aprender a me adaptar. Estou muito nervosa, mas quero aproveitar bastante’’, afirmou Alexsandra.
Os estudantes esperam que com esta oportunidade possam crescer na vida pessoal e profissional, adquirindo novos conhecimentos. Para muitos está é a primeira oportunidade de sair do país para estudar e fazer essa conexão representando o IFRJ.
Confira a lista com os nomes dos estudantes selecionados e a universidade de destino.
Mariana Pereira da Silva, Campus Nilópolis, University Of Bergen, Noruega.
Maria Luiza dos Santos de Souza, Campus Nilópolis, University Of Graz, Áustria.
Fábio da Silva Gouvêa Júnior, Campus Pinheiral, University Of Tartu, Estônia.
Maria Eduarda Teofilo Oliveira Dos Santos, Campus Rio de Janeiro, Aix-Marseille, França.
Julia Gomes da Costa, Campus Realengo, Masaryk University, República Tcheca.
Alexsandra Cervantes Engracia da Silva Viana de Oliveira, Campus Realengo, Instituto Politécnico de Leiria, Portugal.
Bruna de Oliveira Lima, Campus Duque de Caxias, Instituto Politécnico de Beja, Portugal.
Daniella Farias Macedo da Silva, Campus Rio de Janeiro, Politécnico de Setúbal, Portugal.
Beatriz Maria Carmago Leite da Silva, Campus Nilópolis, Politécnico de Cávado e Ave, Portugal.
Anyelen Ferreira Oliveira dos Santos, Campus Realengo, Politécnico de Beja, Portugal.
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